أهداف رش التنغستن
3. المواد المستهدفة للخلايا الشمسية
(1) المواد المستهدفة المستخدمة بشكل شائع: يتم استخدام الألومنيوم / النحاس / الموليبدينوم / الكروم / ITO / Ta وغيرها من المواد المستهدفة بشكل شائع في الخلايا الشمسية.
(2) الاستخدام: يستخدم بشكل أساسي في "طبقة النافذة"، وطبقة الحاجز، والأقطاب الكهربائية والأغشية الموصلة، وما إلى ذلك.
(3) متطلبات الأداء: المتطلبات التقنية العالية ومجموعة واسعة من التطبيقات.
أهداف الرش W
4. المواد المستهدفة لتخزين المعلومات
(1) المواد المستهدفة المستخدمة بشكل شائع: تشمل المواد المستهدفة المستخدمة بشكل شائع لتخزين المعلومات سبائك الكوبالت/النيكل/الحديد/الكروم/التيلوريوم/السيلينيوم ومواد أخرى.
(2) الاستخدام: يستخدم هذا النوع من الهدف بشكل أساسي للرؤوس المغناطيسية والطبقات الوسطى والطبقات السفلية لمحركات الأقراص الضوئية والأقراص الضوئية.
(3) متطلبات الأداء: هناك متطلبات أعلى لكثافة التخزين العالية وسرعة الإرسال العالية.
5. المواد المستهدفة لتعديل الأدوات
(1) مواد الهدف المستخدمة بشكل شائع: سبائك التيتانيوم / الزركونيوم / الكروم والألومنيوم ومواد الهدف الأخرى المستخدمة بشكل شائع لتعديل الأدوات.
(2) الاستخدام: يستخدم عادة لتقوية السطح.
(3) متطلبات الأداء: متطلبات الأداء العالي وعمر الخدمة الطويل.
غرب تكساس
6. المواد المستهدفة للأجهزة الإلكترونية
(1) مواد الهدف المستخدمة بشكل شائع: مواد الهدف المصنوعة من سبائك الألومنيوم/السيليكون المستخدمة بشكل شائع في الأجهزة الإلكترونية
(2) الاستخدام: يستخدم بشكل عام في المقاومات والمكثفات ذات الأغشية الرقيقة.
(3) متطلبات الأداء: الحجم الصغير، والاستقرار، ومعامل مقاومة درجة الحرارة الصغيرة.
